二米平面光栅摄谱仪802W

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最后更新: 2012-12-07 11:21
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 802W二米平面光栅摄谱仪

一、    用途:二米平面光栅摄谱仪广泛地用于地质、冶金、石油、化工、机械等工业部门对矿石、矿物的光谱全分析,金属及其合金的元素含量分析以及高纯物质的杂质痕量分析,稀有元素及稀土元素的定量分析。

二、    主要特点:本仪器采用光栅做色散元件,具有谱线清晰,分辨率高,色散大,线色散的倒数从0.8nm/mm, 0.4nm/mm到0.2nm/mm能广泛地用于各种物质分析,整个(对光、预燃、曝光、板)操作过程自动控制。

三、    规格:

波长范围:200-1000nm

摄谱仪焦距:F=2100MM 相对孔径:1:28(最大)

狭缝主要技术指标:宽度分划范围:0.3mm 分划值:0.001mm 重复性:0.001mm 有效高度:10mm 暗盒尺寸:240×90mm

光栅规格:光栅编号 NO.1 NO.2 NO.3

波长范围(nm) 330-1000nm 200-600nm 200-600

刻化条数(mm) 1200 1200 600

光栅刻化面积(mm) 90×50mm 90×50mm 90×50mm

闪耀波长(nm) 600nm 300nm 300nm

线色散倒数 (nm/mm) 0.4nm/mm0.4nm/mm一级 0.4nm/mm一级 0.2nm/mm二级

一 次 摄 谱 范 围(nm)96nm一级 96nm 192 48nm二级 理论分辨本领 108,000 108,000 54,000

外形尺寸:(包括导轨在内) 2400×1500×600

重量:150kg

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